摘要
O484.1//TN304.055 2003032028CVD金刚石膜中的缺陷=Defects in CVD diamond films[刊,中]/张恒大(北京科技大学材料科学与工程学院.北京(100083)),刘敬明…∥北京科技大学学报.—2002,24(4).—426-428研究了利用直流电弧等离子体喷射(DC Arc PlasmaJet)制备的大面积金刚石膜中的缺陷问题。研究表明:金刚石膜中的缺陷包括表面缺陷、晶内缺陷和晶界缺陷,以及由于内应力产生的金刚石膜宏观和微观裂纹。金刚石膜中的缺陷与制备工艺参数有密切关系。
出处
《中国光学》
EI
CAS
2003年第3期56-59,共4页
Chinese Optics
