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微细加工技术与设备

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摘要 TN305 2003010743基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制=Subwavelengthgratings based on a new microfabrication technology[刊,中]/李以贵(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),陈迪…//光学学报.-2002,22(8)-1008-1010描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即电子束(EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了100nm以下的刻蚀精度。
出处 《中国光学》 EI CAS 2003年第1期96-98,共3页 Chinese Optics
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