摘要
O484.1 2003064144脉冲激光沉积纳米NiO薄膜:Nanocrystalline NiO thinfilm prepared by pulsed laser ablation[刊,中]/王英(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),秦启宗∥高等学校化学学报.-2002,23(11).-2043-2045采用脉冲激光沉积(PLD)法在氧气氛中使用金属镍作为靶材料,不锈钢作为基片,对NiO薄膜的制备进行了研究。结果表明,在不同条件下制备的薄膜形貌明显不同,在600℃条件下所合成的薄膜由300 nm左右的NiO纳米晶颗粒构成,该薄膜表现出优于块状材料的电化学性质。图3参14(张志升)TN249 2003064145用可见激光在聚(氨酯-酰亚胺)
出处
《中国光学》
EI
CAS
2003年第6期23-24,共2页
Chinese Optics
