摘要
TN305.7 2000032160LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO<sub>2</sub>膜层的刻蚀作用=Etching impact on SiO<sub>2</sub> films resulted in alkalinesolution in LCD process[刊,中]/汤安东（深圳莱宝真空技术有限公司.广东,深圳（518034））,刘金瑞（秦皇岛市玻璃厂.河北,秦皇岛（066000））,黄永卓,王秋花（秦皇岛莱成电子有限公司.河北,秦皇岛（066004））//光学精密工程.—1999,7（3）.—74-78钠钙玻璃基片上的SiO<sub>2</sub>膜层在很大程度上决定了液晶显示器件（LCD）的化学稳定性及使用寿命。以射频溅射法制备的SiO<sub>2</sub>膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO<sub>2</sub>膜层不同的刻蚀作用。
出处
《中国光学》
EI
CAS
2000年第3期99-100,共2页
Chinese Optics
