摘要
TN305.7 2000042939迈向21世纪的光刻技术=Microlithography technologiesmarching toward 21st century[刊,中]/姚汉民,周明宝,田宏(中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室.四川,成都(610209))//光电工程.-1999,21(1).-1-8介绍了深紫外光刻技术、电子束光刻技术、X射线光刻技术以及与这些技术相关的一些单元技术的最新进展。介绍了这些技术最热门的研究课题,阐述了这些技术的发展前景。图6表4参5(吴淑珍)
出处
《中国光学》
EI
CAS
2000年第4期102-103,共2页
Chinese Optics
