摘要
O484.1 2000053494直接光CVD类金刚石碳膜的初期成膜结构=Structureof initial DLC films prepared by.directphoto chemical vapor-deposition technique[刊,中]/杜开瑛,石瑞英,谢茂浓,廖伟,张敏(四川大学物理系.四川,成都(610064))//半导体光电.—1999,20(6).—405-408以激波激励氙发射的真空紫外光作光源,乙炔作反应气体,采用直接光化学汽相淀积工艺,在硅。
出处
《中国光学》
EI
CAS
2000年第5期77-78,共2页
Chinese Optics
