光电成像与器件

TN386 2000021251混合式非致冷焦平面器件芯片工艺研究=Study ofprocess of hybrid uncooled focal plane devicechip[刊,中]/黄承彩(昆明物理研究所.云南,昆明(650223))//应用光学.-1999,20(2).-10-17随着红外热成像应用技术的不断发展,国内外研究和开发低成本非致冷热成像仪的兴趣越来越浓。而开发非致冷热像仪的关键技术在于开发其核心部件非致冷平面器件。