阳极氧化实验法测多层薄膜的厚度被引量：1

THE MEASURENT OF MULTILAYBR THIN FILM THICKNRSS BY ANODISATION PROFILE EXPERIMENT

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摘要本文报导了阳极氧化谱图技术，并以此为工具测量多层结构薄膜的厚度。 This paper presents a report about the anodisation profile technique which is used as a tool to mesure the thinkness of multilayer structure thin films.

作者刘必荣章丽霞

机构地区安徽大学

出处《大学物理实验》 1997年第1期7-8,共2页 Physical Experiment of College

关键词阳极氧化溅射 anodisation sputtering

分类号 O4-34 [理学—物理]

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