光敏聚酰亚胺X射线光刻

下载PDF

导出

摘要光敏聚酰亚胺Ｘ射线光刻韩阶平，赵豪，胡一贯，阚娅（中科院微电子中心，合肥国家同步辐射实验室）光敏聚酰亚胺自问世以来就得到了人们的广泛重视，目前对光敏聚酷亚胺的光刻还大多只限于紫外光曝光的方式，还未见到有关光敏聚酰亚胺Ｘ射线光刻的报道。在本文中我们对合...

作者韩阶平赵豪胡一贯阚娅

机构地区中科院微电子中心

出处《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期238-238,共1页 Chinese Journal of Scientific Instrument

关键词光敏聚酰亚胺 X射线中科院微电子中心国家同步辐射实验室 X射线光刻反应离子刻蚀曝光剂量纳米加工图形转换分子相互作用

1韩阶平,侯豪情,徐卫东.耐热光敏聚酰亚胺胶的研究[J].Journal of Semiconductors,1992,13(3):186-192. 被引量：1
2中科院微电子中心更名为中科院微电子所[J].电子工业专用设备,2003,32(6):41-41.
3高素欣.光敏聚酰亚胺光刻胶成膜技术探讨[J].河北化工,1998,21(1):21-23. 被引量：1
4张登玉.激光与分子相互作用制备量子态[J].激光杂志,2000,21(1):27-29.
5白宗武,张秋红,黄小力,黄毓礼.光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究[J].感光科学与光化学,1995,13(4):366-370. 被引量：5
6郭喜,李忠贺,刘佳星,杨刚.光敏聚酰亚胺在硫化镉紫外器件中的应用[J].激光与红外,2016,46(9):1156-1159.
7李加深,李佐邦,朱普坤,杨丽芳,李芳,焦晓明,成爱萍,陈建军.光敏聚酰亚胺抗蚀剂的研究[J].感光科学与光化学,1999,17(4):334-337. 被引量：2
8王晓浩,周兆英,张文栋,吕苗,崔占东,赵彦军,赵彤.新型光敏聚酰亚胺微型阀[J].半导体情报,1998,35(3):43-47.
9P.Kersten,H.Reichl,阎汝华.聚酰亚胺薄膜与PCB技术的结合[J].印制电路信息,1997,0(4):17-19.
10国内首个256位分子存储器电路研制成功[J].机械,2008,0(S1):84-84.

仪器仪表学报

1996年第S1期

浏览历史

内容加载中请稍等...