高精度LIGA掩模研究

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摘要高精度ＬＩＧＡ掩模研究洪义麟，付绍军，田扬超，陶晓明（中国科技大学国家同步辐射实验室）０引言作者通过改进工艺、采用图形发生器直接在掩模基片上曝光及用离子束刻蚀这种干法腐蚀的方法代替原来的湿法腐蚀，再通过同步辐射光刻翻刻、电铸等方法来解决深度同步辐射．...

作者洪义麟付绍军田扬超陶晓明

机构地区中国科技大学国家同步辐射实验室

出处《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期244-,246,共2页 Chinese Journal of Scientific Instrument

基金国家自然科学(青年)基金

关键词高精度离子束刻蚀国家同步辐射实验室同步辐射光刻光刻掩模 LIGA 图形发生器吸收体厚度湿法腐蚀干法腐蚀

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仪器仪表学报

1996年第S1期

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