薄膜光学理论

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摘要 O484 96042583快速热氮化SiO_xNg薄介质膜的电荷特性与光学性质=Charge characteristics and optical propertiesof rapid thermal nitride SiO_xNy thin dielectricfilm[刊,中]/陈蒲生,岑洁儒(华南理工大学应用物理系.广东,广州(510641)),董长江(中科院表面物理实验室.北京(100080))∥半导体学报.—

出处《中国光学》 EI CAS 1996年第4期70-70,共1页 Chinese Optics

关键词光学性质聚合物薄膜电荷特性半导体快速热氮化中科院物理实验室介质膜学报应用物理

分类号 O484.41 [理学—固体物理]

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