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镀膜技术及设备

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摘要 O484.1 96042591SiO<sub>2</sub>薄膜的制备方法与性质=The influence ofoxygen partial pressure on the properties ofSiO<sub>2</sub> thin films[刊,中]/陈立春,姚健铨(天津大学精密仪器系.天津(300072)),王向军,徐叙瑢(天津理工学院材料物理研究所.
出处 《中国光学》 EI CAS 1996年第4期71-72,共2页 Chinese Optics
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