镀膜技术及设备

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摘要 TN304.054 96053317MOCVD方法生长二氧化钛膜研究=The researchabout thin TiO<sub>2</sub> films prepared by MOCVD[刊,中]/金海岩（复旦大学材料系.上海（200437））∥光子学报.—1995,24（Z3）.—45—51通过对各种实验数据的分析,提出了生长速率,折射率与源温、衬底温度的关系。

出处《中国光学》 EI CAS 1996年第5期71-74,共4页 Chinese Optics

关键词薄膜技术镀膜技术张家界学术研讨会超导薄膜离子束辅助光子学光学湖南制备

分类号 O484.1 [理学—固体物理]

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