镀膜技术及设备

O484.1 96063831微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜研究=Diamonddeposition using microwave plasmaassisted chemical vapor deposition[刊,中]/王建军,吕反修,于文秀,佟玉梅(北京科技大学.北京(100083)),邬钦崇,王守国(中科院等离子体物理研究所.安徽,合肥(230031))//人工晶体学报.- 1996,25(2).-137-142研究了石英钟罩式微波等离子体辅助化学气相沉积装置对沉积金刚石薄膜的影响。与石英管式微波等离子体沉积装置相比,该装置能使用较高的沉积气压、较大的气体流量和较高的微波功率。研究了沉积气压、气体和流量甲烷浓度对金刚石薄膜形貌和生长速度的影响。发现生长速度随着沉积气压和甲烷浓度的增大而增大。