高纯钨和化学气相沉积钨的特性和应用

一、绪言采用传统的还原方法能够生产5个九纯度的钨粉.该纯度的钨粉主要用于制取高质量的 Ti-W 和 WSi2合金,这些合金是半导体溅射靶的不可缺少的原材料。大规模集成电路（LSI）上的沉积电极和屏蔽所用的溅射靶是采用热压合金粉末和机加工压制品制造的。