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三氧化钼除钨新工艺
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摘要
日本东京市一家冶金公司研究出一种三氧化钼除钨新工艺。该工艺流程是:首先将含有钨杂质的三氧化钼溶解于氨水中(pH值为6.5~7.5),获得每升含200~500克三氧化钼的溶液;然后调整pH值至2.5~4.5,将溶液加温至50℃;等溶液慢慢沉淀后,即出现纯钼酸铵,钨几乎被完全除去。
作者
李玲玲
出处
《中国钨业》
CAS
1995年第1期34-35,共2页
China Tungsten Industry
关键词
三氧化钼
新工艺
工艺流程
溶液
杂质
冶金
东京
溶解
沉淀
日本
分类号
TF841.2 [冶金工程—有色金属冶金]
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