钡铁氧体垂直磁化薄膜的磁光特性研究

本文研究了钡铁氧体垂直磁化膜在垂直磁记录及磁光记录方面应用的基本磁及磁光特性。利用射频磁控溅射方法，采用正份及非正份陶瓷靶制备了钡铁氧体薄膜，在纯氧气氛下经不同退火温度晶化，制成钡铁氧体垂直磁化膜。在优化的溅射参数及最佳的退火工艺下，得到了性能良好的钡铁氧体垂直磁化膜。研究了薄膜的磁光记录应用特性。