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表面活性剂对化学发光的增敏机理探讨

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摘要 近年来表面活性剂在化学发光分析中得到广泛地应用,但有关表面活性剂对化学发光反应增敏作用的机理研究却少见报道。 本文试验了15种不同类型的表面活性剂对DMPF-H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>-Co(Ⅱ)体系化学发光反应的影响。选择了两种有代表性的增敏表面活性剂——CTMAB和Triton X—100,试验了其浓度变化对化学发光强度的影响。
出处 《云南大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1993年第S1期103-104,共2页 Journal of Yunnan University(Natural Sciences Edition)
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