摘要
制备了用 MOMBE 法生长的碳重掺杂 p型 GaAs p—n 结二极管。虽然结上的晶格失配产生了不理想位错,但 I—V 和 C—V特性没有明显地受到 p—GaAs 空穴浓度的影响,即使用空穴浓度高达5×10<sup>20</sup>cm<sup>-3</sup>的掺碳 GaAs 材料也同样得到了理想系数为1.3的良好的 I—V 特性。用 EBIC
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
1991年第4期33-36,共4页
Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays