完全化学镀钴基垂直磁记录介质及其特性

首次采用完全化学镀工艺(包括基底镀前处理、活化与敏化、镀膜),在聚酰亚胺基片上直接镀制了钴基垂直磁记录介质膜,并对介质的结构特性与磁性能进行了较系统的研究。结果表明,完全湿法工艺可制备出满足垂直磁记录基本特性要求的良好介质,为垂直磁记录软盘的推广应用提供了一种具有实际意义的方法。