用于LSI的双层布线工艺研究

本文在实验的基础上,叙述了LSI 中的几种双层布线工艺方法,将这几种方法进行了分析比较,并从中得出结论:Si_3N_4—SiO_2方法以及 PI 方法是现行 LSI 中较为适用的双布线技术。