氮分压对磁控溅射TiN膜层光学性质的影响
被引量：1
EFFECT OF THE PARTIAL PRESSURE OF NITROGEN ON THE OPTICAL PROPERTIES OF THE TiN FILM PREPARED BY MAGNETICALLY CONTROLLED SPUTTERING
摘要
本文主要叙述用磁控溅射制备TiN薄膜,氮气的分压强对膜层光学常数——折射率和消光系数的影响。
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1990年第1期35-37,共3页
Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
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