期刊文献+

电子能谱二氧化硅标准物质的研制

DEVELOPMENT OF A STANDARD REFERENCE MATERIAL-SiO_2 FOR AES AND XPS
下载PDF
导出
摘要 本文主要阐述了标准物质SiO_2的制备与研究以及用AES测定其界面宽度时的各种影响因素。文献综述了三种界面宽度的计算方法和修正因子,并指出了各自的优缺点。 This paper describes the development of a standard reference material-SiO_2 and different influence factors in the interface width measurement by AES. Three computing methods and correcting factors are summarized, and their merits and demerits are indicated, respectively.
出处 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1990年第6期397-401,共5页 Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部