大幅提高ЭМ-5009Б激光图形发生器的曝光速率

Enhancem entof the Exposure Rate of EM-5009B

下载PDF

导出

摘要根据ЭМ－５００９Б激光图形发生器的工件台运动方式，　This paper introduces a m ethod thateffectively prom ots the exposure rate ofEM-5009Blaser pattern generatoraccording to the stage m ovem entm ode.

作者田振文刘贵增王维军

机构地区电子十三所

出处《半导体情报》 1999年第5期63-64,F003,共3页 Semiconductor Information

关键词激光图形发生器曝光速率 VLSI Laser pattern gene

分类号 TN470.5 [电子电信—微电子学与固体电子学] TN305.7 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

1田振文.ЭМ-5009Б激光图形发生器结构原理及维修实例[J].半导体情报,1998,35(4):56-58.
2钱敏.Micronic革新图形技术与客户双赢[J].集成电路应用,2006,23(10):14-14.
3邓建国,刘玉奎,印子华,邹昭伟.EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法[J].微电子学,2005,35(6):591-593.
4蒋玉贺.5009激光图形发生器曝光实验[J].微处理机,2014,35(6):12-13.
5ISI-2802激光直写系统简介[J].光电工程,1997,24(S1):113-113.
6跳跳虫.CPU的语言[J].大众软件,2000(6):38-39.
7高强,赵海法.EM-5009B激光图形发生器的数据处理[J].微处理机,1998,19(4):11-14.
8方澍.EM-5009b激光图形发生器漏曝和曝光移位现象研究[J].集成电路通讯,2003,21(2):16-18.
9梁宜勇,白剑,杨国光.激光图形发生器调焦系统设计[J].光电子．激光,2005,16(10):1202-1205. 被引量：1
10梁宜勇.离焦写入线宽的动态高斯模型[J].光学学报,2006,26(5):726-729. 被引量：2

半导体情报

1999年第5期

浏览历史

内容加载中请稍等...

大幅提高ЭМ-5009Б激光图形发生器的曝光速率

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史