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ICP-MS分析进展及其在稀有难熔金属分析方面的应用 被引量:9

Advances in Inductively Coupled Plasma mass and Its Application in Analyzing Rare refractory Metals
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摘要 综述了ICPMS分析技术的起源、现状和最新进展, 简单介绍了ICPMS技术的特点、干扰问题及其克服方法等, 阐述了ICPMS的应用状况, 并重点说明了ICPMS在稀有难熔金属分析方面的应用。 Abstract: The review is about ICP MS analytical technology and its origin, status and recent development since 1980, simply introduce its features, interference and being overcome and ect , expound its condition in aplication, and emphasisly describe its application in rare refractory metals.
出处 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期57-61,共5页 Chinese Journal of Rare Metals
关键词 ICP-MS 难熔金属 杂质元素 稀有金属 ICP MS, Rare refractory metals and its alloy, Impurity element
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参考文献10

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