摘要
概述了下一代电子电路板填充用的CuSO4电镀技术。(1)盲导通孔填充,(2)贯通孔填充,(3)半导体用的凸块和(4)TSV填充。
This paper describes copper sulfate plating technology for filling for next generation electronic circuit board:(1) blind via hole filling;(2) through hole filling;(3) bump plating for semiconductor and(4) through silicon via(TSV) filling.
出处
《印制电路信息》
2012年第1期44-48,共5页
Printed Circuit Information