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合成金刚石的某些方法评介
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摘要
首先扼要阐述了与金刚石薄膜制备技术有关的等离子体特性,随后着重介绍了金刚石薄膜制备技术的最新进展。根据沉积工艺参数和装置的结构评价了各种技术的优缺点。最后指出了目前这些技术中存在的问题。
作者
罗崇泰
黄良甫
李梦轲
刘定权
机构地区
兰州物理研究所
出处
《真空与低温》
1990年第2期33-38,共6页
Vacuum and Cryogenics
关键词
金刚石
薄膜
真空镀膜
等离子沉积
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
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