一些金属、半导体和化合物的A_r^+溅射产额

离子溅射技术已广泛地应用于现代工艺和研究领域的许多方面,成为一种重要的技术手段。表面分析技术结合溅射剥离技术可以获得固体成份的深度分布,这在许多研究工作中和应用技术领域中有着重要意义。此外,在基片上用溅射法进行薄膜的沉积;利用溅射可以获得原子级的清洁表面;对薄膜进行深度剖面分析和实现深度细微加工等。