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上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用

The 3rd Generation of Shanghai Synchrotron Radiation Facility and Its Application in Lithography and LIGA
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摘要 对即将动工的上海第三代同步辐射装置(SSRF)及其主要参数作了介绍。叙述了目前同步辐射x射线光刻和LIGA的一些技术进展情况。 Both the 3rd generation of shanghai synchrotron radiation facility(SSRF)which will be built soon and its main issues are introduced in this paper.Some progress of both synchrotron radiation x ray lithography and LIGA is introduced.The application prospect of SSRF lithography/LIGA station is analyzed briefly.
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期11-13,共3页 Semiconductor Technology
关键词 同步辐射光源 X射线光刻 LIGA The 3rd synchrotron radiation source X-ray lithography LIGA
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参考文献2

  • 1Rothschild M,Burns J A,Cann S G et al. Journal of Vacuum Science and Technology . 1996
  • 2Shigehisa Ohki and Sunao Ishihara. Microelectronics Journal . 1996

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