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自清洁涂料

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摘要 201202081具有自清洁减反射涂层的基材及其制备方法:CNl02317228A[中国发明专利申请公开]/以色列:清洁阳光能源有限公司(E·斯幕艾里等).一2012.01.11.-201080007637.3(2010.01.12):IPCC03Ci7/34,
出处 《涂料技术与文摘》 2012年第2期54-54,共1页 Coatings Technology & Abstracts
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