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用于LED制造的EVG620HBL Gen Ⅱ掩模对准系统
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摘要
EVG620HBL Gen Ⅱ是EVG用于高亮度发光二极管(HB-LED)批量生产的第二代全自动掩模对准系统。GenⅡ在发布第一代EVG620HBL的1年后推出,提供一个工具平台,主要用于满足HB-LED客户的特定需求,以及市场对降低总所有权成本的不断要求。
出处
《电子工业专用设备》
2012年第3期61-61,共1页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
HB-LED
对准系统
掩模
高亮度发光二极管
制造
批量生产
全自动
第二代
分类号
TN312.8 [电子电信—物理电子学]
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Si衬底GaN基功率型LED制造技术开发[J]
.中国科技成果,2010(10):13-13.
2
郭春玲,胡松,魏相惠.
掩模一样片对准台[J]
.光电工程,1999,26(S1):87-90.
3
郭京平.
分步重复投影光刻机同轴对准系统[J]
.光电工程,1998,25(3):1-6.
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4
于高洋.
我国LED产业发展路径[J]
.电子工业专用设备,2010,39(12):9-12.
被引量:2
5
硅衬底LED芯片主要制造工艺[J]
.中国照明,2010(8):86-89.
6
陈建伟,李南.
白光LED制造工艺初探[J]
.光电技术,2001,42(2):38-42.
7
发光二极管[J]
.中国照明电器光源灯具文摘,2005,25(1):44-46.
8
EVG晶圆键合——3DIC集成的关键技术[J]
.电子工业专用设备,2013(2):75-75.
9
Microsemi SmartFusion2 SoC FPGA系列安全评估方案[J]
.世界电子元器件,2016,0(7):9-11.
10
韩冷,孙霞.
OFDM系统的同步分析及FPGA实现[J]
.广东通信技术,2014,34(8):41-44.
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电子工业专用设备
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