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复合靶磁控溅射离子镀膜技术
被引量:
2
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摘要
从理论上、实践上比较了多种镀膜技术 ,确认了在铁氧体移相器单元表面镀膜最好且实用的技术是复合靶、磁控溅射离子镀技术 ,并进一步阐述。
作者
毛德才
张秀娥
机构地区
北京无线电测量研究所
出处
《航天工艺》
2000年第1期5-8,共4页
关键词
复合靶
磁控溅射
离子镀
雷达
铁氧体移相器单元
分类号
V261 [航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]
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田民波.薄膜技术手册[M].北京:机械工业出版社,1991.
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唐伟忠.薄膜材料制备原理、技术及应用[M].北京:冶金工业出版社,2002.
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吴咏华,沙振舜,孙大明,等.近代物理实验[M].安徽教育出版社,1987.
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秦跃利,高能武,吴云海.
改进工艺提高薄膜附着力[J]
.电子元件与材料,2000,19(1):26-27.
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陈荣发,戴国钧,赵毅红,刘炳坤.
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.电子工业专用设备,1992,21(3):44-48.
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Haef.,RA,陈文浩.
离子镀膜[J]
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邸英浩,曹晓明.
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万立骏,陈宝清.
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宋泽润.
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.混合微电子技术,2010,21(2):61-63.
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真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺[J]
.电子科技文摘,1999(11):43-43.
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王茂祥,吴建宁.
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.电子工程师,1999(7):1-3.
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