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C-V技术及其在半导体工艺检测上的应用 被引量:4

C-V Techniques and its Application for Semiconductor Process Detection
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摘要 介绍了 C- V测量技术特点及其在半导体工艺检测上的应用 ,这对提高工艺质量及产品的可靠性起着重要的作用。 The characteristic of C V measurement techniques and its application for semiconductor process detection are introduced.It is very important to improving the quality of technology and the reliability of products.
作者 何德湛
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期29-31,33,共4页 Semiconductor Technology
关键词 C-V技术 半导体 工艺检测 应用 C-V Semiconductor process detection Application
  • 相关文献

参考文献5

  • 1厦门大学物理系半导体物理教研室编.半导体器件工艺原理[M].北京:人民教育出版社,1977.400.
  • 2何德湛,闵靖,曾庆光.半导体工艺线上的C-t检测及其应用[J].半导体技术,1994,10(3):46-49. 被引量:2
  • 3何德湛.脉冲MOS C-V法检测n沟区离子注入杂质浓度分布.第三届全国半导体集成电路、硅材料学术会议论文集摘要[M].合肥:中国电子学会编,1983.156.
  • 4何德湛,第三届全国半导体集成电路、硅材料学术会议论文集摘要,1983年,156页
  • 5厦门大学物理系半导体物理教研室编,半导体器件工艺原理,1977年,400页

共引文献2

同被引文献21

引证文献4

二级引证文献8

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