摘要
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。
The structure,principle and manufacturing process of a single layer attenuated phaseshifting mask which is compatible with the traditional Cr mask fabrication technology are introduced in this paper.Partial experimental results are provided.
出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期64-64,66,共2页
Laser Journal
基金
中科院重大项目和中科院光电所所长基金资助
关键词
光刻
衰减相移掩模
相移器
单层材料
photolithography,phase shifting mask,attenuated phase shifting mask
