期刊文献+

扫描定点法在Si/Mo多层膜材料深度剖面分析中的应用 被引量:1

Application of RAS-POINT MODE in the Depth Profile of Si/Mo Multilayer Film Material
下载PDF
导出
摘要 :用对比方式对分割成二等分的同一Si/Mo多层非晶薄膜样品分别作了RAS POINTMODE和POINTMODE的二次离子质谱深度剖面分析 ,前者是把RASMODE(扫描法 )与POINTMODE(定点法 )有效结合起来的一种方法 ,即所谓扫描 -定点法。实验证明 ,扫描 -定点法有效地克服了弹坑效应 (Cratereffects)。 A Si/Mo noncrystalline multilayer film sample was cut into two equal pieces in surface area for two times SIMS depth profile analysis by using RAS POINT MODE and POINT MODE respectively. The results obtained by RAS POINT MODE,which is a kind of RAS MODE in combination with POINT MODE, form a striking contrast to POINT MODE and show that RAS POINT MODE overcome the “Crater effects”efficiently.
作者 王典芬
出处 《分析测试技术与仪器》 CAS 2000年第1期12-15,共4页 Analysis and Testing Technology and Instruments
关键词 深度剖面分析 扫描-定点法 硅钼膜材料 质谱法 multilayer film depth profile analysis crater effects RAS-POINT MODE
  • 相关文献

参考文献1

  • 1H. W. Werner,A. Torrisi. Interface and thin film analysis: Comparison of methods, trends[J] 1990,Fresenius’ Journal of Analytical Chemistry(6):594~613

同被引文献4

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部