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半导体材料将走向“纳米化”
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摘要
到2015年,我国将拥有多条45—90纳米的8英寸、12英寸生产线。2022年进入国际前列。不过随着集成度提高,硅晶片会遇到很多困难.例如芯片功耗急剧增加,极有可能将硅片融掉。以砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等为代表的第二代半导体材料不断向硅提出挑战。
作者
王占国
机构地区
中国科学院
出处
《科学中国人》
2012年第8期57-57,共1页
Scientific Chinese
关键词
半导体材料
纳米化
硅晶片
生产线
集成度
砷化镓
第二代
磷化铟
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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科学中国人
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