期刊文献+

HfO_2/SiO_2多层高反膜脉冲YAG激光预处理机理的研究 被引量:2

Study of mechanism on HfO_2/SiO_2 multilayer high reflective coatings by pulse YAG laser conditioning
下载PDF
导出
摘要 本文研究了HfO2 /SiO2 多层高反膜脉冲YAG激光预处理提高抗激光损伤阈值的机理。通过分析和计算 ,我们提出了一种物理模型 ,即热扩散模型。由于扩散结果 ,导致HfO2 膜层的折射率增加 ,致使HfO2 、SiO2 膜层交界处光驻波波峰降低 。 In this paper,mechanism of HfO 2/SiO 2 multilayer high reflective coatings by pulse YAG laser conditioning has been studied.On the basic of analysis and count,We have presented a physical model,that is heat diffusion model.As a result of diffusion,result in refractivity increase of HfO 2 coatings layer,make reduction of light standing wave peak,consequently anti laser induced damage threshold is developed.
机构地区 四川大学光电系
出处 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期13-13,16,共2页 Laser Journal
基金 中国工程物理研究院科学技术基金
关键词 HFO2/SIO2 多层高反膜 激光预处理 YAG激光 HfO_2/SiO_2 multilayer high reflective coating,laser conditioning,mechanism,heat diffusion,damage threshold
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献5

共引文献16

同被引文献23

引证文献2

二级引证文献8

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部