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激光干涉光刻技术应用概述

Technologies and applications of laser interference lithography
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摘要 激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术,具有设备结构简单、价格低廉、高效率、高分辨率和大视场曝光等特点。介绍通过激光干涉光刻产生的一维光栅结构、二维网格结构以及二维点阵结构在生物传感、太阳能电池和光子晶体等领域的应用前景。 As a newly developing lithographic process,laser interference lithography has advantages of simple equipment, cost ef- fective, great efficiency ,high resolution, large areas processing and so on. The 1D ,2D nanostructures, based on laser interference lithography has very promising application prospects in biosensors, solar cells, photonic crystals, etc.
出处 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2012年第6期1-5,共5页 Modern Manufacturing Engineering
基金 国家自然科学基金项目(51105360) 江苏省自然科学基金项目(BK2011218) 清华大学摩擦学国家重点实验室开放基金项目(SKLTKF10B06)
关键词 激光技术 光刻 纳米结构 laser technique lithography nanostructures
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