摘要
论述了激光全息光刻技术的基本原理、发展状况和在制备衍射光栅及场发射平板显示器等光电子器件方面的应用。
The basic principle and development of the laser holographic lithography are des cribed with emphasis on the applications in photoelectronic devices such as the manufacture of grating and field emission displays(FEDs).
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期14-16,共3页
Semiconductor Technology
关键词
激光
全息光刻
光电子器件
Laser Holographic lithography Photoelectronics device
