光刻机曝光分系统的测较方法研究

光刻机是生产芯片的机器,它将掩模板上的电路图形通过光源(激光或汞灯)的照射,掩模板上透光和不透光的部分就在涂有光刻胶的硅片上形成了电路图形。曝光分系统是光刻机的重要的组成部分,它包括光源(激光或汞灯),反射镜组,中继透镜组,积分棒,耦合透镜组,可变衰减器、快门、能量探测器、能量点传感器、投影物镜。光刻机工作原理和照相机有很多相似之处,但是比照相机要复杂的多。就曝光分系统而言,可变衰器相当于光圈;快门相当于相机的快门;能量探测器相当于相机的测光系统;投影物镜相当于镜头;反射镜组、中继透镜组、积分棒、耦合透镜组相当于相机的取景器。照相机要想拍出好照片必须对镜头进入的光进行控制,同样,曝光分系统要想满足在硅片曝光出电路的需要,必须对光源的照度和剂量、视场大小和中心位置、光源的照明均匀性按照生产指标进行控制,这时候就需要对曝光分系统进行测较。