重度深覆正畸中微型种植体支抗系统的应用观察

目的观察重度深覆正畸治疗中微型种植体支抗系统的应用效果。方法 8例成年前牙Ⅲ度深覆、下颌前部牙槽发育过度的高角患者,均采用微型种植体作支抗,在两侧下侧切牙牙根和尖牙牙根间牙槽骨唇侧植入,每侧以50 g的牵引力压低下前牙。比较治疗前及覆正常时L6-MP距(下颌第一磨牙近中颊尖至MP平面的距离)、L1-MP距(下中切牙切缘点至MP平面的距离差)和转矩(L1-MP角)。结果本组患者治疗4～8个月。治疗过程中微型种植体稳定,无松动和脱落。治疗前L6-MP距、Li-MP距、L1-MP角分别为(54.26±1.87)mm、(65.38±1.42)mm、92.57°±2.12°,治疗后分别为(54.47±1.48)mm、(60.13±1.25)mm、92.78°±2.03°,治疗前后Li-MP距相比,P<0.05,L6-MP距、Li-MP角相比,P均>0.05。结论用微型种植体支抗系统压低高角深覆患者的下前牙,效果良好。