摘要
纳米压印光刻技术的研究始于普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授,是将一具有纳米图案的模版以机械力(高温、高压)在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案,其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关,而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制。目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本,因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。此外,NIL技术可应用的范围相当广泛,涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置(微混合器、微反应器)、超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。