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ZrO_2膜中的应力 被引量:1

STRESS IN ZrO_2 FILMS
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摘要 用射频溅射制备了ZrO2 膜 ,发现膜呈压应力剥落 ,用X射线衍射分析了薄膜中的应力 ,提出了避免剥落的对策。 ZrO_2films were deposited with rf sputteringX-ray diffraction method was used for analyzing the stress in the films,which could explain why the films peel off.A strategy for avoiding peeling was proposed.
出处 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期1-3,共3页 China Ceramics
关键词 薄膜 基片 应力 二氧化锆 电解质 陶瓷 thin film ZrO_2 substrate stress
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