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用硅烷和氮混合物的低温等离子体沉积氮化硅薄膜

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作者 文允鉴
出处 《等离子体应用技术快报》 2000年第5期4-6,共3页
关键词 硫烷 氮 混合物 低温等离子体沉积 氮化硅薄膜
分类号 O484.1 [理学—固体物理]
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等离子体应用技术快报
2000年 第5期

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