铜基体上化学镀铂

介绍了一种利用自发的化学过程在铜膜上选择性地沉积铂的方法。铂膜被沉积在非常薄的（厚度小于30nm）铜膜上。同时介绍了化学镀液和膜层结构。该工艺可应用于逻辑器件、存储器件和光电器件的加工上。