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应用材料公司推出突破性刻蚀技术
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摘要
近日,应用材料公司推出了Applied Centura@ AvatarTM电介质刻蚀系统,提升了尖端刻蚀技术。该突破性系统能够解决三维存储结构制造过程中所面临的最严峻的挑战,提供未来数据密集型移动终端所需的高密度万亿比特存储能力。
出处
《中国集成电路》
2012年第8期4-4,共1页
China lntegrated Circuit
关键词
应用材料公司
刻蚀技术
突破性
数据密集型
制造过程
存储结构
存储能力
移动终端
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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中国集成电路
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