期刊文献+

应用材料公司推出突破性刻蚀技术

下载PDF
导出
摘要 近日,应用材料公司推出了Applied Centura@ AvatarTM电介质刻蚀系统,提升了尖端刻蚀技术。该突破性系统能够解决三维存储结构制造过程中所面临的最严峻的挑战,提供未来数据密集型移动终端所需的高密度万亿比特存储能力。
出处 《中国集成电路》 2012年第8期4-4,共1页 China lntegrated Circuit

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部