产品名称：超高真空磁控溅射镀膜机

特点： 单室结构，真空室尺寸φ300×H250。在真空室内装有一（两）只磁控溅射靶。可完成各种单质、复相、多层以及化合物薄膜的制备。此外本设备为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备。它可以在高纯氯气的保护下进行多种离子处理。