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PtSi红外焦平面芯片可靠性物理分析
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摘要
某单位的红外焦平面芯片,在生产过程中发现成品率较低,主要原因是漏电流大。我们对几个批次产品的统计分析,确定了主要的失效模式;利用液晶分析,E-Beam光辐射显微镜对成品进行了失效定位和失效机理分析;而且通过分析关键工序的半成品揭示了主要失效机理。
作者
姜小波
刘发
何小琦
机构地区
信息产业部电子第
出处
《电子产品可靠性与环境试验》
2000年第1期30-33,共4页
Electronic Product Reliability and Environmental Testing
关键词
可靠性
红外焦平面芯片
失效分析
PTSI
物理分析
分类号
TN303 [电子电信—物理电子学]
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电子产品可靠性与环境试验
2000年 第1期
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