摘要
较系统地介绍了低压下化学气相合成(CVD)金刚石薄膜的主要方法 。
The main synthetic methods of the diamond thin films chemical vapor deposition are introduced;their advantage and disadvantage are compared simply.
出处
《真空与低温》
2000年第2期80-85,90,共7页
Vacuum and Cryogenics
基金
国家自然科学基金资助项目!(59882005)
