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关于全膜并联电容器真空浸渍工艺探讨 被引量:8

Discussion on Vacuum Impregnation Process for All-film Shunt Capacitors
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摘要 在全膜并联电容器的制造过程中,真空浸渍工艺过程是极其关键的。全膜并联电容器真空浸渍工艺过程是否完善,既与电容器单元内部结构,尤其是元件结构及其在真空浸渍工艺过程所处的姿态密切相关,又与真空浸渍工艺过程中的3个关键参数,即:温度、真空度、时间,密不可分。本文对这两方面进行了初步探讨,希望对提升全膜并联电容器的产品质量有所帮助. The vacuum impregnation process is extremely critical in the production process of all-film shunt capacitors. Perfection of vacuum impregnation process of all-film shunt capacitors production is closely related not only to internal structure of all-film shunt capacitor unit, especially to the ele- ments structure and its configuration in the process of vacuum impregnation, but also to such three key parameters in the process as temperature, vacuum and time. In this paper, a preliminary dis- cussion on those two aspects is made, which is expected to help to improve quality of all-film shunt capacitors.
作者 李子华 唐青
出处 《电力电容器与无功补偿》 2012年第4期58-64,共7页 Power Capacitor & Reactive Power Compensation
关键词 元件 温度 真空度 时间 elements temperature vacuum time
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